Interruptor Q LiNbO3 EO de pulso de bloque único

  • Gran coeficiente óptico no lineal

  • Gran ángulo de recepción

  • Pequeño ángulo de salida

  • Amplia temperatura y ancho de banda espectral

  • Alto coeficiente fotoeléctrico y baja constante dieléctrica

  • Propiedades químicas y mecánicas estables y no absorbentes

  • Células Pockels de mínima pérdida con cristales LN (LiNbO 3 ) de calidad SUPERIOR desarrollados internamente

  • Pulido y recubrimiento de superficies de alta calidad.

  • LN y PPLN dopados con MgO están disponibles

  • Vida útil larga y comprobada, 2 años de garantía

  • 20 años de experiencia al servicio de las aplicaciones láser más exigentes

  • WISOPTIC cultiva internamente KDP, KD*P, KTP, RTP, BBO y LN

  • Ser comprado y confiado por docenas de empresas de láser en todo el mundo


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Detalles del producto

Los cristales LN no son higroscópicos y tienen un coeficiente de absorción y una pérdida de inserción bajos . Además, el cristal LN puede funcionar de manera estable en un amplio rango de temperatura , lo que los convierte en el principal cristal EO aplicado en los sistemas láser militares.

Los interruptores Q electro-ópticos de LN se utilizan ampliamente en láseres Er:YAG, Ho:YAG, Tm:YAG y son adecuados para salida de interruptor Q de baja potencia, especialmente en rango de láser. Las celdas LN Pockels pueden ser muy compactas y el voltaje de media onda puede ser muy bajo. Dopando MgO en LiNbO 3 , el umbral de daño de las células LN Pockels  puede aumentarse drásticamente. Ofrecemos los interruptores Q más compactos para nuestros clientes.


Dimensiones

(2×2~9×9)×25mm

Tolerancia de dimensión

± 0,1 mm

Tolerancia de ángulo

± 0,5°

Llanura

< λ/8 a 632,8 nm

Calidad de la superficie

< 20/10 [D/D]

Paralelismo

< 20”

Perpendicularidad

≤ 5'

Chaflán

≤ 0,2 mm a 45°

Distorsión de frente de onda transmitida

< λ/4 a 632,8 nm

Capacidad

20pF

electrodos

Oro

l/4 Voltaje

~1,5 kV (@ 1064 nm)

Relación de extinción dinámica

20dB (@ 1064nm)

Apertura clara

8,5 mm (> 90% área central)

Revestimiento

Recubrimiento AR: R < 0.2%   @ 1064   nanómetro , R < 0,5 %   @ 532   Nuevo Méjico

Umbral de daño por láser

LN

100 MW/ cm2  @ 10ns, 10Hz, 1064nm

MgO : LN

150 MW/ cm2  @ 10ns, 10Hz, 1064nm


Single-block Pulse-on  LiNbO3 EO Q-switch.jpg

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