Seguimiento y comprensión de eventos de daños por láser en la óptica - Parte 11

3.3 Pretratamiento láser de   película dieléctrica con  gran diámetro

La tecnología de pretratamiento láser es el último proceso antes del suministro de componentes de gran diámetro con película dieléctrica   en dispositivos NIF en los Estados Unidos. LLNL proporciona el dispositivo de pretratamiento láser ir  y   especificaciones   a cada uno de sus proveedores de componentes de película delgada . Para la película dieléctrica, el papel del pretratamiento con láser es eliminar los nódulos y defectos restantes después de la optimización del proceso de recubrimiento, lo cual es una garantía muy importante para el suministro de ingeniería a gran escala de componentes de recubrimiento dieléctrico  ||| | con grande   diámetro. Uno de los propósitos  es eliminar defectos y mejorar la capacidad de resistir daños. El otro propósito es  evaluar completamente si el elemento de película delgada cumple con los requisitos del flujo operativo final en el sistema láser.

En la actualidad, la tecnología de pretratamiento láser se ha aplicado a la producción   de espejo de transmisión (TM), espejo de codo (ZJ) y polarizador (PL) en China, y se ha convertido en el último proceso en la fabricación  de películas dieléctricas de gran diámetro. El tamaño de TM  es de 610 mm×430 mm×85 mm, y el tamaño del polarizador y el espejo de codo es de 810 mm×430 mm×90 mm. La resistencia al daño por láser de los componentes después del pretratamiento con láser se muestra en la Figura 15. El umbral de daño funcional del espejo de transmisión alcanza los 30 J/cm ² (1064 nm, 5 ns), y el umbral de daño funcional del espejo de codo y el polarizador alcanza los 14 J/cm ² (1064 nm, 5 ns).

El estado superficial de la película dieléctrica después del pretratamiento con láser se muestra en la Figura 16, donde la escala de las picaduras no excede los 15 μm, la escala lateral de la ablación con plasma no excede los 300 μm y la profundidad vertical ir   no excede supere los 30 nanómetros. Basándose en el estado actual de la ablación por plasma superficial después del pretratamiento con láser de la película dieléctrica, se simuló y analizó la influencia de la película dieléctrica de gran apertura en la calidad del haz después del pretratamiento. El efecto del haz es insignificante, como se muestra en la Fig. 17(a) y (b). El efecto del pretratamiento con láser en PSD2 se analizó mediante una prueba de perfilómetro y los resultados mostraron que PSD2   aumentó después del pretratamiento, pero aún estaba dentro del rango requerido de 1,1 nm, como se muestra en la Figura 17(c).

 Se puede ver que el proceso de pretratamiento láser no afectará significativamente la calidad del haz mientras mejora la capacidad antidestructiva del componente. Cabe señalar que los datos que se muestran en rojo en la Figura 15 significan que estos tres componentes han sido probados , durante el proceso de pretratamiento con láser ,   no cumplir con los requisitos del  diseño ed  flux   en el sistema láser de alta potencia, por lo que no se utilizarán.